随着光刻机控制系统开发项目的启动，天宇科技内部掀起了一股跨部门协作的热潮。这一天，公司各个部门都围绕着这个核心项目忙碌起来，大家都深知这个项目对于公司未来发展的重要性。

林宇一大早就来到了公司，他首先召集了研发即时聊天软件的专家教授团队、姜老的光刻机研发团队以及公司的技术部成员，在一间宽敞的会议室里举行了第一次联合会议。

会议室里气氛热烈又充满紧张感。林宇站在会议桌的前端，目光坚定地看着大家：“各位同事，我们都知道光刻机控制系统的开发是公司目前的重中之重。这个项目需要我们各个团队紧密合作，发挥各自的优势。”

姜老首先发言：“林总，我们光刻机研发团队会全力支持控制系统的开发。我们已经整理出了光刻机硬件部分的详细参数和工作流程文档，今天就可以交给负责控制系统开发的同事们。这将有助于你们更好地了解与硬件的对接需求。”

研发即时聊天软件的专家教授团队负责人李教授接着说：“我们这段时间一直在深入研究林总提供的光刻机系统架构图，也学习了很多关于光刻机的基础知识。我们初步制定了一个开发计划，但是在一些关键技术环节上，还需要和姜老的团队进一步沟通探讨。”

林宇点头说道：“这是非常好的开端。技术部的同事们也要积极参与进来，你们在公司的各种技术项目中积累了丰富的经验，要在这个项目中起到协调和技术支持的作用。”

技术部主管赵刚应道：“林总，我们已经安排了几个经验丰富的工程师加入这个项目。他们会随时解答在开发过程中遇到的技术问题，并且负责搭建开发环境和进行初步的代码测试。”

会议结束后，各个团队开始按照计划行动起来。

专家教授团队的成员们拿着姜老团队提供的文档，如获至宝地回到自己的办公室，开始更加深入地研究。他们根据文档中的硬件参数，对控制系统的架构进行进一步细化。

一位年轻的研究员小王对着文档中的光刻机工作台移动精度数据，皱着眉头思考：“这个精度要求对于控制系统的信号传输和指令生成模块的响应速度要求极高，我们之前的设计可能还需要调整。”

旁边的张教授听到后说：“没错，我们要重新评估每个模块的性能指标，确保整个系统在与硬件对接时能够完美运行。”

与此同时，姜老的团队也没有闲着。他们带领着专家教授团队的部分成员深入到光刻机实验室，实地讲解光刻机各个硬件部件的工作原理。

姜老指着光刻机的光源部分说：“这个EUV光源的功率输出是非常关键的参数，控制系统需要精确地对其进行监测和调整。在光刻过程中，光源功率的微小波动都会影响到光刻的精度。”

专家教授团队的成员们认真地记录着姜老的讲解，不时提出一些问题。

“姜老，那这个光源功率波动的正常范围是多少呢？我们在设计控制系统的监测算法时需要这个数据。”一位成员问道。

姜老耐心地回答：“正常情况下，我们希望这个波动范围控制在±0.1%以内，这是目前我们在硬件上能达到的最佳水平。所以你们的控制系统要尽可能精确地将其稳定在这个范围内。”

在另一边，技术部的工程师们正在忙碌地搭建控制系统的开发环境。他们从公司的服务器中调配计算资源，安装各种开发工具和模拟软件。

工程师小李一边安装软件一边对同事说：“这个控制系统的开发对计算资源的要求很高，我们要确保开发环境的稳定性，不能因为计算资源不足而影响开发进度。”

同事小刘回应道：“是啊，而且我们还要考虑到后期测试阶段，可能需要更多的资源来进行大规模